5ドル入金カジノ

JavascriptをOnにすると、より快適にWEBサイトの機能をご利用いただけます。 MENUCLOSE 検索ボタン Discover DNP 企業情報 企業情報トップ 5分でわかるDNP より良い未来 トップメッセージ グループビジョン／ブランドステートメント／行動規範 DNPグループの価値創造ストーリー DXによる価値創造 会社概要 役員紹介 事業領域 沿革 DNPグループ・拠点 受賞履歴 コミュニケーション活動 文化活動 サプライヤーの皆さまへ 閉じる 技術／研究開発 技術／研究開発トップ 技術／研究開発・メッセージ 研究開発の方針・体制 知的財産活動 イノベーションを生み出す多様な技術と組織風土 DNPの基盤技術 「より良い未来」をめざす研究開発事例 閉じる IR情報 IR情報トップ IRニュース IRスケジュール 株価チャート 財務ハイライト（連結） IR資料室 株式・債券情報 よくあるご質問・IRポリシー 閉じる サステナビリティ サステナビリティトップ サステナビリティメッセージ サステナビリティ・マネジメント マテリアリティの特定 環境 社会 ガバナンス 方針・基準・データ レポートアーカイブ 社外からの評価 GRI内容索引 閉じる ニュース ソリューション／製品・サービス(別ウィンドウで開く) DNPグループ・拠点 採用 よくあるご質問 Global(Open in a new window) お問合わせ 検索ボタン Discover DNP 企業情報 技術／研究開発 IR情報 サステナビリティ ニュース ソリューション／製品・サービス(別ウィンドウで開く) DNPグループ・拠点 採用 よくあるご質問 Global(Open in a new window) お問合わせ ホーム ニュース 3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発 | ニュース 2023年12月12日 3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発 回路線幅の微細化が進む半導体市場のニーズに対応 ニュースリリース 製品・サービス エレクトロニクス 研究開発 DX 次世代通信 大日本印刷株式会社（本社:東京　代表取締役社長:北島義斉　以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノメートル（nm： 10-9m）相当のフォトマスク製造プロセスを開発しました。スマートフォンやデータセンター等で使われるロジック半導体の高性能化に伴う、回路線幅の微細化ニーズに対応しました。  3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク 【開発の背景】 近年、EUV光源を用いるEUVリソグラフィの技術が確立し、最先端のロジック半導体ではEUVリソグラフィによる生産が進んでいます。2023年には3nmのロジック半導体を採用した製品が提供されるなど、半導体の回路線幅の微細化は今後も進むと予想されています。また、メモリ半導体においてもEUVリソグラフィの採用が進んでおり、最先端半導体の供給にEUV対応が欠かせないものとなってきています。 DNPは、2016年にフォトマスク専業メーカーとして世界で初めてマルチ電子ビームマスク描画装置を導入し＊1、高い生産性と品質で半導体メーカーの要望に応えてきました。また、2020年には5nmプロセス相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発し＊2、半導体関連市場のニーズに対応するマスクを供給してきました。今回、さらなる微細化のニーズに対応すべく、3nmプロセスに相当するEUVリソグラフィ向けフォトマスクを開発しました。 【開発の概要】 ○DNPが2016年に導入したマルチ電子ビームマスク描画装置は、約26万本の電子ビームの照射が可能で、複雑なパターン形状でも描画時間を大幅に短縮できます。今回、この装置の特性を活かした製造プロセスを改善し、データ補正技術や、EUVリソグラフィ向けフォトマスクの複雑な曲線パターン構造に合わせた加工条件を最適化しました。 ○DNPは新たにマルチ電子ビームマスク描画装置を増設し、2024年下期に稼働を開始する予定です。EUVリソグラフィ向けフォトマスクなど先端領域の半導体製造の対応を強化します。 ○ベルギーに本部を置く最先端の国際研究機関imec（Interuniversity Microelectronics Centre）と次世代EUV露光装置向けフォトマスクの共同開発を推進します。 【今後の展開】 DNPは、今回開発した3nm相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスクを世界中の半導体メーカーのほか、半導体開発コンソーシアム、製造装置メーカー、材料メーカー等へ提供するとともに、EUVリソグラフィの周辺技術開発も支援し、2030年には年間100億円の売上を目指します。またDNPは、imecをはじめとしたパートナーとの共同開発を通じて、3nmより微細な2nm以降のプロセス開発も進めていきます。 ＊1　2016年12月13日ニュースリリース：次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化   https://www.dnp.co.jp/news/detail/1187660_1587.html ＊2　2020年7月10日ニュースリリース：5nm対応EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発   https://www.dnp.co.jp/news/detail/10158409_1587.html ※「SEMICON Japan 2023」で、EUVリソグラフィ向けフォトマスクを紹介します。 https://www.dnp.co.jp/news/detail/20170085_1587.html ※記載されている会社名・商品名は、各社の商標または登録商標です。 ※ニュースリリースに記載された製品の仕様、サービス内容などは発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがありますので、あらかじめご了承ください。 シェアする X（旧Twitter）にポスト（別ウインドウで開く） LinkedIn メール URLをコピー 印刷 ニューストップへ 検索・絞り込み 発表時期 発表時期(年)を選択 2024年 2023年 2022年 2021年 2020年 2019年 2018年 2017年 2016年 2015年 2014年 発表時期(月)を選択 1月 2月 3月 4月 5月 6月 7月 8月 9月 10月 11月 12月 --> 注目のトレンドタグ 人的資本 地域創生・まちづくり DX 認証・セキュリティ メタバース カテゴリ 企業情報 製品・サービス 研究開発 グローバル展開 IR サステナビリティ イベント 外部メディア掲載 グループ会社からのお知らせ 製品・サービスの16カテゴリで絞り込む 認証・セキュリティ マーケティング・販促 印刷・出版 BPO(ビジネス・プロセス・アウトソーシング) フォト・イメージング コーポレートコミュニケーション XR 決済・カード 教育・文化 IT・DX 産業部材・資材 パッケージ モビリティ 健康・医療 建装材 エレクトロニクス IRの9カテゴリで絞り込む 株主総会 決算発表 説明会 IR資料 有価証券報告書 決算短信 業績・財務 経営・人事 株式 検索 ページトップへ サイトマップ サイトのご利用にあたって 個人情報保護方針 ソーシャルメディアポリシー アクセシビリティポリシー © Dai Nippon Printing Co., Ltd. We have detected you are accessing from a location outside Japan.Please choose one of the following: Go to global site Continue browsing this site